一、真空气氛管式炉用途

真空气氛管式炉主要应用于高等院校、科研院所、工矿企业等实验和小批量生产之用。主要用于粉  体、电子、陶瓷等其它产品的预烧、烧结、镀膜、高温热解低温沉积（cvd）工艺等

二、真空气氛管式炉特点

1、采用真空成型工艺技术，电炉丝镶嵌在炉膛的内表面，一次成型的炉膛内胆，防止受到挥发物的干扰，特殊的绝热设计，炉壳外表面温度低。

2、控制方式：可控硅控制，可编程序30段，pid参数自整定功能，手动/自动无干扰切换功能，超温报警功能，具有温度校正功能和温度补偿功能。

3、炉管采用氧化铝炉管，可选用刚玉炉管。

4、具有超温报警功能，控温仪表具有密码功能，设定参数密码控制。

5、显示视窗：测量温度，设定温度双显示，加热功率光柱显示。

6、快装法兰使用方便，配标准真空备件，真空泵，气氛备件。

7、电炉丝设置子在炉膛内的周围，特殊的炉丝表面处理防腐处理。

三、真空气氛管式炉参数型号炉管 外径(mm)最高 温度加热段 长度(mm)功率(kw)电压(v)炉管 总长(mm)外观尺寸(mm)tdrg40/10￠401000℃2502220900500×460×630ydrg60/10￠601000℃2503220900500×460×630ydrg80/10￠801000℃2504220900500×460×630tdrg100/10￠1001000℃2504220900500×460×630tdrg40/12￠401200℃2502220900500×460×630tdrg60/12￠601200℃2503220900500×460×630tdrg80/12￠801200℃2504220900500×460×630tdrg100/12￠1001200℃2504220900500×460×630

注：可根据用户要求另行设计制造，更多规格及参数和详细技术方案请来电咨询！